铟含金属，包括混合铟含草酸作为沉淀剂的溶液，形成沉淀铟草酸盐，通过固液分离回收沉淀物，将沉淀物溶解在酸中形成溶液，将铝板插入溶液中，形成海绵铟通过用铝替代，然后使海绵铟碱性铸造，准备一个铟含金属。上述方法可适用于生产铟-含有金属，作为起始材料，使用一种铟溶液通过溶解铟-通过回收获得的含有材料铟在用酸等制造ITO薄膜的过程中分散，效率高，良率好。
铟是在光学材料、光电子材料、化合物半导体、焊锡等各个领域有效使用的金属，广泛用作液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）等的电极材料原料。最近，但因为铟昂贵只是由包含的再生剂寻求铟, 废物等铟可以再次使用。
由以下方法形成的 ito 薄膜铟-氧化锡(ITO)由于同时具有高导电性和可见光透过性，被应用于太阳能电池、液晶显示器、触摸屏、窗玻璃用途，并带有防汗加热膜等各种nesa涂层。
作为制作ito薄膜的方法，可以列举溅射法、真空蒸镀法、溶胶-凝胶法、附聚离子线束蒸镀法、PLD等方法。其中，由于溅射法可以可在较低温度下在大面积基板上制成低阻抗薄膜，因此在工业上得到广泛应用。
在利用溅射法制作 ito 薄膜时，通常是烧结氧化混合物的 ITO 烧结体铟并且得到二氧化锡作为靶材，照射等离子体等并溅射ITO，从而在衬底上蒸发形成ITO薄膜。此时，溅射的ITO不会在衬底上产生不蒸发而分散在周围的ITO，因此就寻求用盐酸等酸分散的 ITO 溶解形成含有铟锡，回收铟和锡并再次从这种含有铟锡和制造ITO原料等。
含有的盐酸溶液铟用溶剂和萃取类型的萃取剂萃取，然后用稀酸进行反萃取，得到的溶液为铟回收的取入电解，或者中和形成氢氧化物，再通过碳或氢还原或用硫酸溶解电解回收铟.
铟含金属，各种铟形成含有如 ITO 靶材的废料并含有铟，用过的洗涤流等可能会包含铟可以制作铟含金属有效地作为起始原料，并能抑制杂质的缔合，使铟-含有高纯度的金属铟.制造方法铟含金属，该方法是通过将铟被制成铟- 含金属铟，其中，该方法有草酸铟沉淀操作和回收沉淀操作，在草酸中铟沉淀操作，从而将混合在含有溶液中的草酸铟作为沉淀剂生成草酸铟抛出; 在里面回收沉淀操作，回收上述草酸铟通过固液分离排出。
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